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石英坩埚的历史和现状你了解过吗?
点击次数:64 发布时间:2019-11-24
   石英坩埚的历史和现状
  1.早期石英坩埚
  早期的石英坩埚是全部透明的,较早期的石英坩埚是全部的透明的结构,这种透明的结构却容易引起导致不均匀的热传输条件,增加晶棒生长的困难度。所以这种坩埚基本被淘汰使用。
 
  2.现代的石英坩埚
  现代拉单晶的石英坩埚一般是采用电弧法生产,半透明状,是拉制大直径单晶硅,发展大规模集成电路必不可少的基础材料
 
  现代的石英坩埚则存在二种结构,外侧是一层具有高气泡密度的区域,称为气泡复合层,内侧则是一层3~5mm的透明层,称之为气泡空乏层。气泡复合层的目的是在与均匀的辐射有加热器所提供的辐射热源。气泡空乏层的目的在于降低与溶液接触区域的气泡密度,而改善单晶生长的成功率及晶棒品质。
 
  石英坩埚的情况分析
  工艺采用真空熔融法,外几家采用的是涂层法,即在坩埚内壁用精细石英砂喷涂到坩埚表面大约1~2mm左右。涂的不均匀,这就会造成在单晶生长过程中内壁脱落导致单晶生长失败。
 
  有一种涂钡锅,可应用到太阳能单晶用坩埚上。涂钡工艺也可用人工进行,但是人工涂钡的缺点在于在涂钡的同时引进多余的杂质且人工喷涂不均匀,使得在开始拉晶的时候由于杂质过多或者单晶生长过程中内壁脱落,造成放肩时断线,需提杂后才能进行继续拉晶。